儀器介紹：

等離子清洗機是一種小型的非破壞性表面處理設(shè)備，它是采用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的等離子體，等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達(dá)到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進行 消毒和殺菌。等離子清洗技術(shù)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

產(chǎn)品特點：

2 采用7寸彩色觸摸屏操作界面，人機交互操作方便，界面友好；

2 手動、自動兩種工作模式；

2 微電腦控制整個清洗過程，全自動進行；

2 采用電子流量計+手動微調(diào)閥的氣路控制模式，標(biāo)配雙氣路，最多可配置四氣路；

2 可選擇氣體質(zhì)量流量計（選配，最多4路氣體）

2 上下極射頻技術(shù)，等離子激發(fā)均勻。

2 安全保護，氣壓閾值，切斷高壓；

2 樣品盤：φ258mm *120mm，容納樣品量及高度更優(yōu)越。

2 自動記錄實驗設(shè)置條件，避免后期重現(xiàn)實驗數(shù)據(jù)，可自動保存1000條實驗記錄。

技術(shù)參數(shù)：

2 艙體尺寸： H120*?270mm

2 艙體容積：7L

2 射頻電源：40KHz

2 激發(fā)方式：電容式

2 射頻功率：10~300W（功率數(shù)字輸入調(diào)節(jié)）

2 氣體控制：電子流量計+旋鈕式微調(diào)閥

2 產(chǎn)品尺寸：L400*W490*H335mm

2 真空泵抽速：

2 真空度：100Pa以內(nèi)

2 電源：AC220V50-60Hz